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2026-10-14
低挥发残留：三氟丙烷三甲氧基硅烷高沸点低挥发的稳定液相组成
2026-10-14
无过氧化物残留：三氟丙烷三甲氧基硅烷生产全程无过氧化物残留的安全原料组成
2026-10-13
窄馏分精馏提纯：三氟丙烷三甲氧基硅烷精密精馏后窄沸程的高纯度馏分组成
2026-10-13
低氟离子残留：高纯三氟丙烷三甲氧基硅烷游离氟离子≤5ppm的低腐蚀组成
2026-10-12
国标氟硅烷合规体系：三氟丙烷三甲氧基硅烷符合精细电子化学品行业标准的标准化组成
2026-10-12
电子级超高纯组成：99.5%电子级三氟丙烷三甲氧基硅烷低金属离子的超净精制组成
2026-10-10
低水分精准控制：三氟丙烷三甲氧基硅烷水分含量≤50ppm的无水干燥组成特性
2026-10-10
低重金属残留：半导体级三氟丙烷三甲氧基硅烷重金属总含量≤1ppm的超净组成
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